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  离子清洗机主要通过反应类型和激发频率两个方面来分类。
  反应类型分类
  等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。
  物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面最终被真空泵吸走。物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点:本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性。缺点:对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。
  化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。
  化学反应为主的等离子体清洗的优点:清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点:表面产生氧化物。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,去除表面的污染物。
  激发频率分类
  等离子态的密度和激发频率的关系式: nc=1.2425×108v2 ,其中nc为等离子态密度(cm-3),v为激发频(Hz)。 等离子体激发频率分为:频率为40kHz的等离子体为超声等离子体,13.56MHz的等离子体为射频等离子体,2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
超声等离子体的自偏压为1000V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。
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